Séchage à gaz inerte

Séchage à gaz inerte

Dans des conditions atmosphériques normales, l’oxygène réagit aux photoinitiateurs dans l’encre après qu’ils aient été exposés à la lumière UV. Cela inactive certains d’entre eux et limite la portée de la polymérisation susceptible de se produire. Ensuite, le revêtement est mal séché ou le processus est obligé de fonctionner beaucoup plus lentement.

Le séchage sous atmosphère inerte élimine l’oxygène et améliore de façon considérable le taux et la portée de réticulation. Les vitesses de séchage sont fortement améliorées, la migration de matériaux dangereux est réduite et l’odeur du produit fini est améliorée.

• Permet de sécher les encres à faible migration pour les applications alimentaires
• Améliore la vitesse de séchage de toutes les encres à radicaux libres
• Permet de sécher les revêtements en silicone à radicaux libres
• Limite l’odeur de l’encre

Les chambres de séchage à gaz inerte de GEW peut être intégrées de façon personnalisée pour différentes applications et machines. Indépendamment du fait qu’une laize traverse directement l’unité UV ou soit soutenue par un rouleau, notre conception unique garantit une utilisation minimale du gaz inerte tout en maintenant des niveaux d’oxygène ajustables inférieurs à 50 ppm. Les capteurs surveillent constamment le niveau d’oxygène à l’intérieur de la chambre de séchage et le système de RHINO peut maintenir le niveau d’oxygène souhaité automatiquement via un contrôle en circuit fermé.

Composants types du système:

1. Sécheur UV
2. Chambre de séchage à gaz inerte
3. Analyseur d’oxygène
4. Cassette de contrôle à gaz inerte
5. Moniteurs UV à points multiples (en option)
6. Écran tactile IHM
7. Électronique de puissance Rhino
8. Alimentation de gaz inerte

*Ce catalogue est en anglais.