Moniteurs UV multipoints GEW montés sur les têtes de lampe NUVA2

Options de personnalisation de lampe UV

Les systèmes de séchage UV de GEW peuvent être personnalisés individuellement pour répondre à vos exigences spécifiques.

Options de personnalisation de lampe UV

Une large gamme d’options sont disponibles pour personnaliser un système de lampes UV GEW. GEW propose une solution de séchage UV intégrée complète, comprenant des têtes de lampe, un équipement de refroidissement, une alimentation et des systèmes de commande pour l’utilisateur. Ainsi, ces options sont faciles à intégrer dans votre système pour correspondre à votre application spécifique.

Lampes UV

Modèles de lampes
Différents modèles de lampes sont disponibles pour convenir à de nombreuses applications, y compris les lampes à dopage aux halogénures métalliques et le verre de quartz sans production d’ozone ou à UVC élevé.

refroidissement du substrat

Refroidissement des substrats
Le contrôle de la température est essentiel pour de nombreuses applications. Les options de refroidissement de GEW permettent de s’assurer que même les systèmes UV les plus puissants n’endommagent pas les substrats.

Moniteurs UV multipoints GEW montés sur les têtes de lampe NUVA2

Surveillance UV à points multiples
La mesure en ligne continue de la sortie d’UV vous permet de réaliser une inspection UV totale et vous offre un contrôle de votre processus de séchage inégalé jusqu’à présent.

gaz inerte

Séchage à gaz inerte
L’oxygène empêche le mécanisme de séchage UV. Les systèmes de séchage à gaz inerte de GEW éliminent efficacement l’oxygène et améliorent considérablement le processus de séchage.

Cassette infrarouge E2C

Cassette à infrarouges
GEW propose une solution flexible permettant de sécher les encres à base d’eau, même sur une presse sans sécheurs à air chaud. Le cassette IR est facile à insérer dans n’importe quel logement ArcLED.

E2C Grille de protection

Fenêtre quartz
Une plaque en verre de quartz laissant passer l’énergie UV, installée sur la fenêtre d’émission des têtes de lampe. Elle protège la lampe et peut servir à bloquer le rayonnement IR.

LW2 et E4C Grille de protection

Grille de protection
Offre une protection contre les résidus de substrats qui entrent en contact avec la lampe UV chaude, par exemple en cas de rupture de laize ou de problème de feuille.

Positive Purge

Positive Purge et NetZero
Ces systèmes éliminent toute la consommation d’air ambiant dans l’usine. L’air de refroidissement est évacué à l’extérieur du bâtiment, avec l’ozone générée par la lampe.

OzoneFilter

Filtre à ozone
Permet d’évacuer l’air d’échappement en toute sécurité à partir du système UV dans la salle de production, lorsqu’il est impossible d’installer des conduites à l’extérieur.


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David Lyus

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